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半導體、電子潔淨廠房設計施工要求
更新時間:2022.04.25   來源:Ob欧宝真人淨化設備有限公司   瀏覽次數:

淨化工程,無塵車間8.jpg

半導體特性決定其製造過程必須有潔淨度要求,環境中雜質對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用,所以在半導體器件生產過程中對什麽都必須嚴格控製,雜質各式各樣,如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能,灰塵粒子破壞半導體器件的表麵結構等。半導體、電子無塵潔淨廠房有其特殊施工要求,下麵Ob欧宝真人淨化設備有限公司就其特點作些經驗交流。

首先了解下半導體器件生產環境要求,其生產條件除了要求恒溫恒濕外,對生產環境潔淨度要求很嚴,按單位體積重規定的塵埃粒子數標準分成潔淨度的等級。一般分為:10級、100級、1000級、10000級、100000級,國際標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯邦標準中均有規定潔淨室和潔淨區內空氣以大於或等於被考慮粒徑的粒子最大濃度限值進行劃分的等級標準。

電子產品性能、質量的提高和生產過程的微細化,日益要求生產環境具有一定的空氣潔淨度級別和控製淨化車間內工藝生產所需的各類高純物質的供給質量,目前國內外還沒有統一電子產品的空氣潔淨度等級或生產環境控製要求的統一規定,各種電子產品的生產廠家依據其生產的產品品種、所采用的生產工藝技術、生產工藝設備、生產用原輔料以及淨化車間運行的實踐經驗確定設計建造淨化車間的空氣潔淨度級別等級(如下表格)。

淨化車間的空氣潔淨度級別等級.jpg

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